雷士超声波硅片行业清洗设备

雷士超声波硅片行业清洗设备

1.   清洗对象  多晶硅

2.   去除物   碱迹、酸迹、灰尘

3.   使用溶剂  一般为水剂+弱碱性清洗液

该清洗设备对多晶硅表面、细缝和隐蔽处清洗效果更好，清洁度更高，并且清洗速度快，提高生产效率。

1雷士振板超声波清洗机由不锈钢SUS304制造，使用寿命长。

2超声波发生器与振板之间采用高频电源连接。

3根据各种不同清洗要求，可以做成底震式、侧震式和顶震式三种超声波振板形式。

4有些单位有现成的清洗槽，可以在这基础上添加振板装置，改装成超声波清洗机。

5宽频扫描技术,消除驻波,使超声波能量分布更均匀,消除清洗盲区。

6频率自动根踪功能，适应不同的负载、温度、液位。

7灵活的拆装形式，更自由更可靠。